日前中国工信部推出了一款全新国产DUV光刻机，这标志着我国在半导体制造技术上又研发出新的突破，该项技术的突破不仅使我国的半导体制造水平取得了显著的进步，也为我国实现半导体自主化打下了坚实的基础。

然而就在这项技术宣布上市后不久，我国又有一家企业递交了一项在EUV极紫外光刻上的专利申请，若该专利获得批准，那么此款光刻机有望具备生产7nm以下芯片的能力，这将意味着我国的光刻机已经打破了国外企业保持的技术壁垒。

这更是让阿斯麦股价应声暴跌，出现了1998年以来最大跌幅，阿斯麦作为荷兰最大的光刻机生产商，其生产的EUV光刻机是目前最先进的光刻机，有着全球最尖端的半导体制造机器，并垄断了全球市场，因此迫于形势才将部分技术授权给日本。

申请EUV专利。

为了赶上美国半导体制造水平的发展潮流，我国也在大力发展相关领域，目前我国的华为、展讯和紫光等企业都是投入了重金购买国外那些先进半导体设备，其中就含有阿斯麦生产的DPU和EUV光刻机。

这两者光刻机都是以纳米为测量单位，数字越小代表其性能就越好，能够制造的芯片工艺就越先进。

在2019年5月份，我国上海微电子就申请了一项新的专利，相关内容涉及“极紫外辐射发生装置及光刻设备”，而且图纸上的排版与阿斯麦的一项专利非常相似，涉嫌抄袭。

随着中国在半导体核心技术上逐渐取得突破，阿斯麦作为荷兰最大的光刻机生产商面临着巨大的压力。

因此，在我国逐渐崛起的形势下，阿斯麦也开始感受到强烈的不安。

对于上海微电子的专利申请，阿斯麦提出了异议，并希望欧盟对此进行调查。

作为一家全球领先的半导体设备供应商，阿斯麦一直占据着市场主导地位，其EUV光刻机被认为是制作最新一代芯片所必需的关键设备。

然而，随着中国在半导体领域的崛起，已逐渐成为全球最大的半导体市场，其本土企业也积极追赶国际竞争对手。

尽管DAI光刻机尚未达到最先进的EUV工艺水平，但它已在制程能力上接近国际顶尖水平。

同时，我国的上海微电子在2021年获得了EUV巨头阿斯麦的许可协议，使其能够自行研发相关设备。

若该专利获得批准，那么此款光刻机将具备制造7nm以下芯片的能力，这意味着中国将在半导体技术方面迎来新的突破。

这将直接影响全球半导体行业格局，并进一步推动中国科技创新的发展。

这也意味着国产光刻机有望在国际市场中占据一席之地，从而打破国外垄断。

阿斯麦股价狂跌。

由于中国上海微电子集团公司今年提交了多项与EUV光刻机相关的专利申请，而且其中一项关于光刻设备中气体混合系统的专利申请通过审核并获得批准。

这标志着我国在EUV光刻技术方面取得了重要进展。

根据5月30日发布的一份公开信息显示，此项专利经过初步审查后，于今年3月获得准许公告，并于6月1日正式授权公布。

考虑到该专利涉及到EUV基本关键技术，因此这无疑是中国推动EUV相关研究的重要里程碑，也是值得表示关注的一大消息。

如果把时间轴推回到2019年，在经历了一系列高强度打压后，美国方面曾考虑是否应对中国黑名单上的所有企业放宽一些限制。

然而阿斯麦却对此持感谢态度，表示如果放宽限制，将对未来发展产生十分消极的影响。

随着我国在半导体领域成功申请EUV专利，这将意味着我国终于拥有了与美国匹敌对抗的技术核心能力，这让阿斯麦和美国都非常惶恐。

如今虽然上海微电子没能真正实现研发7nm以下芯片制程的能力，但也向外界表明了一种信号，EUV光刻机对搞光刻机业务的企业越多越有利，中国在这一方面已经完全合乎国际局势发展趋势。

受此消息影响，美国最大的半导体设备公司英特尔股价狂跌16%，创下自1998年以来最大跌幅。

此前，该公司曾备案了110亿美元收购总部位于荷兰的ASML的一家子公司的相关事务，但鉴于ASML内部顾问和法律团队认为，没有明确说明做出此决定是否具有侵权性质，因此该交易最终并没有进行。

随着上海微电子集团申请的几项涉及EUV光刻技术的专利获得批准，这引发市场极大震动，认为中国很可能已经发展出能与荷兰ASML一较高下的技术。

ASML是荷兰最大的上市公司，在中国市场上长期处于重要地位，其在华销售额近乎占据60%的收入。

然而由于近年来美国加强对中国技术出口管控，尤其是在先进制程设备方面限制，对ASML向中方销售EUV设备进行了严格限制。

因此，如果ASML最终无法向中国客户输出EUV设备，将对其造成极为不利影响，无疑会失去这个庞大的市场份额。

为了保住现有市场份额，美国情报系统办公室今日对外透露，建议ASML向中方出售EUV设备，以保持其行业竞争力。

未来我国的半导体行业有望称霸全球吗?

根据北京晨报报道，我国2023年上半年表现强劲同比增长140.4%，出口总金额达到稳定1762亿美元。

然而，中国如何应对这一挑战仍然是一大悬念，我国正努力迎头赶上，并在半导体产业布局上持续加码。

然而美方还处于强势地位，需要在此方面进一步回应，以便确保具有一定优势地位。

根据《财经》杂志分析，我国如果要研发出和ASML所研发出来一样水平的光刻机，那么至少需要投入4000亿美元，而且国产化的话可能还会突破6000亿美元。

这对于中国来说是非常巨大的一个经济负担，更何况这是一个未知数，设备研制成功和否是两码事，而其中一款最贵型号EUVD光刻机售价更是达到3亿美元，相当于20亿人民币，所以这不仅需要我国巨大的资金，还需要长时间不断地进行改进完善和研究对比才能最终研制完成。

但无论如何，我国现在已经迈出了第一步，所以前面还有很长的一条路，但绝不是没有希望，关键是看如何重新规划布局，并确定我们今后的走向以及应该专注于什么方面，以便战略性行动。

我们不能像花很多钱，买很多贵设备那样做，不仅耗时耗力，也没有必要给其他人机会进行干扰。

我们应该明确什么是我们所需，以及我们的目标是什么，这对于今后未来的发展具有重要意义，同时也是战略实施中的重要考量。

面对国外以虚假利益诱惑国内芯片公司进行选择和集成的问题，以及是否要追求高度集成化和国际化的问题，这些都需要综合考虑。